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Sur la ligne de production 3nm de TSMC, un seul Particule de 0,5 micron peuvent détruire des tranches de silicium valant des millions d'euros. Les données de SEMI révèlent que les fabs mondiales de semi-conducteurs souffrent $5 milliards d'euros de pertes annuelles en raison d'écarts de rendement dus aux processus de nettoyage, ce qui témoigne de la tolérance zéro de la fabrication à l'échelle nanométrique à l'égard de la contamination.

Le centre de R&D en ingénierie d'AOQUN, fort de 20 ans d'expertise et de partenariats avec l'université Sun Yat-sen, l'université de Jinan et d'autres, a fait œuvre de pionnier dans le domaine des technologies de l'information et de la communication (TIC) et des technologies de l'information et de la communication. Brosse intelligente pour nettoyer les gaufrettes sans les endommager (Brevet : ZL202411907351). Cette "nano-videLa solution de type "C" permet à l'industrie des semi-conducteurs de faire sauter les barrières du nettoyage.

▶ Précision zéro dommage
▶ Élimination révolutionnaire des contaminants
Élimine les résidus tenaces (boues de CMP, débris métalliques) par technologie d'alignement directionnel des fibresLa répartition de la pression est donc uniforme. Cela permet d'obtenir :
✓ 40% : efficacité de nettoyage accrue
✓ Aucun dommage de surface
✓ Remplace les outils de polissage allemands/européens/japonais

Les solutions de nettoyage de plaquettes et de puces d'AOQUN couvrent :
Avec Capacité annuelle de 250 millions d'eurosAOQUN répond aux exigences des leaders mondiaux des semi-conducteurs en matière de volume et de précision.

L'AOQUN fera progresser la science des matériaux et la production numérique pour relever les défis du nettoyage dans les processus sub-nm et les applications à haute fréquence.l'ère de l'IdO grâce à une pureté parfaite au micron près.
Guangzhou, China — As the tides of the Pearl River rise to welcome global merchants, the 138th China Import and Export Fair (Canton Fair) is approaching this spring. AOQUN Brush is proud to showcase our latest innovations in intelligent bru...
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