{"id":1532,"date":"2025-07-17T18:11:39","date_gmt":"2025-07-17T10:11:39","guid":{"rendered":"https:\/\/www.abrushqueen.com\/?p=1532"},"modified":"2025-07-17T18:12:36","modified_gmt":"2025-07-17T10:12:36","slug":"aoqun-semiconductor-brushes-precision-at-micron-scale-powering-the-core-of-the-iot-era","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/www.aoqunbrushes.com\/es\/aoqun-semiconductor-brushes-precision-at-micron-scale-powering-the-core-of-the-iot-era.html","title":{"rendered":"Cepillos semiconductores AOQUN: Precisi\u00f3n a escala microm\u00e9trica, impulsando el n\u00facleo de la era IoT"},"content":{"rendered":"
En la l\u00ednea de producci\u00f3n de 3nm de TSMC, apenas\u00a0Part\u00edcula de 0,5 micras<\/strong>\u00a0pueden destruir obleas valoradas en millones. Los datos de SEMI revelan que las f\u00e1bricas mundiales de semiconductores sufren\u00a0M\u00e1s de 1.400 millones de euros de p\u00e9rdidas anuales<\/strong>\u00a0debido a las lagunas de rendimiento derivadas de los procesos de limpieza, un claro testimonio de la tolerancia cero de la fabricaci\u00f3n a nanoescala a la contaminaci\u00f3n.<\/p>\n\n\n\n <\/p>\n\n\n\n <\/p>\n\n\n\n El Centro de I+D en Ingenier\u00eda de AOQUN, respaldado por 20 a\u00f1os de experiencia y asociaciones con la Universidad Sun Yat-sen, la Universidad de Jinan y otras, ha sido pionero en la Cepillo inteligente de limpieza de obleas sin da\u00f1os<\/strong> (Patente: ZL202411907351). Este \"nanovac\u00edo<\/strong>\" permite a la industria de semiconductores romper las barreras de la limpieza.<\/p>\n\n\n\n <\/p>\n\n\n\n <\/p>\n\n\n\n \u25b6 Precisi\u00f3n sin da\u00f1os<\/strong><\/p>\n\n\n\n <\/p>\n\n\n\n \u25b6 Eliminaci\u00f3n revolucionaria de contaminantes<\/strong> <\/p>\n\n\n\n <\/p>\n\n\n\n Las soluciones de limpieza de obleas y chips de AOQUN abarcan:<\/p>\n\n\n\n <\/p>\n\n\n\n Con 250 millones de euros de capacidad anual<\/strong>AOQUN satisface las demandas de gran volumen y alta precisi\u00f3n de los l\u00edderes mundiales en semiconductores.<\/p>\n\n\n\n <\/p>\n\n\n\n <\/p>\n\n\n\n <\/p>\n\n\n\n AOQUN har\u00e1 avanzar la ciencia de los materiales y la producci\u00f3n digital para hacer frente a los retos de limpieza en los procesos de subnm y las aplicaciones de alta frecuencia-.potenciar la era de la IO con una pureza microm\u00e9tricamente perfecta<\/strong>.<\/p>\n\n\n\n <\/p>","protected":false},"excerpt":{"rendered":" En la l\u00ednea de producci\u00f3n de 3 nm de TSMC, una simple part\u00edcula de 0,5 micras puede destruir obleas valoradas en millones. 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<\/figure>\n\n\n\nSoluciones de limpieza a nanoescala que rompen los l\u00edmites<\/strong><\/h3>\n\n\n\n
<\/figure>\n\n\n\n\n
Elimina los residuos persistentes (lechada CMP, restos met\u00e1licos) mediante tecnolog\u00eda de alineaci\u00f3n direccional de fibras<\/strong>, garantizando una distribuci\u00f3n uniforme de la presi\u00f3n. Con ello se consigue:
\u2713 40% mayor eficacia de limpieza<\/strong>
\u2713 Sin da\u00f1os superficiales<\/strong>
\u2713 Sustituye a las herramientas de pulido alemanas\/europeas\/japonesas<\/strong><\/p>\n\n\n\n
<\/figure>\n\n\n\nCobertura integral de semiconductores<\/strong><\/h3>\n\n\n\n
\n
<\/figure>\n\n\n\nEnfoque de futuro: Nodos m\u00e1s peque\u00f1os, conectividad m\u00e1s inteligente<\/strong><\/h3>\n\n\n\n